変形パラメータ
パーティクルシステムを再生するとシステムのパラメータに従ってセルが複製さ
れ、キャンバス内に各パーティクルが作成されます。すべてのパーティクルはエ
ミッタの位置に対応して放出されるため、キャンバスでエミッタの位置を変更す
ると、そのシステムの個々のパーティクルの位置も変更されます。
Origin of particle system
after emitter has been
repositioned
Origin of particle system
この大まかな原則には 1 つ例外があります：ビヘイビアまたはキーフレームを
使ってエミッタの位置がアニメートされる場合、パーティクルは後続フレームで
のエミッタの位置変更に関係なく、放出時点でのパーティクルの位置に対応して
移動します。次の例では、アニメートされたエミッタが画面を横切り、変化する
エミッタの位置に関係なく元の軌道を維持したパーティクルの尾が残ります。
「パーティクルセル」インスペクタの「エミッタに吸着」パラメータでこのビヘ
イビアを変更します。0%に設定すると、パーティクルはエミッタとは完全に独
立して動作します。100%に設定すると、アニメートされるエミッタの位置に従っ
てパーティクルが移動します。「ドラッグ」など適用されたビヘイビアによって
は、パーティクルがエミッタに従って移動しない場合もあります。
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第 14 章
パーティクルを操作する
エミッタのほかの変形パラメータ「回転」、「調整」、「シアー」、および「ア
ンカーポイント」）を変更すると、エミッタから放出されるパーティクルの分布
が変化し、個々のパーティクルが変形されます。たとえば、エミッタを作成して
「シアー」パラメータを変更すると、パーティクルがエミッタの新しい平面に対
応して放出され、パーティクルの分布が変化します。同じ平面に沿うようにパー
ティクルの分布が傾きます。
After Shear parameter
is adjusted
Analog Modulator
particle system preset