パーティクルシステムでマスクを使う
以下のイメージに示されているように、マスクをパーティクルエミッタのセル
ソースに適用することができます。セルソースのマスクのエフェクトは、放出さ
れたパーティクル全体に適用されます。
Original source layer
Bezier mask applied
to source layer
Resulting particle system
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第 14 章
パーティクルを操作する
エミッタオブジェクト自体にマスクを適用することもできます。
Rectangle mask (inverted)
applied to the emitter object
マスクの操作について詳しくは、「
レイヤーまたはグループにマスクをかける
」
を参照してください。