Motion 5 - Utilisation de masques avec des systèmes de particules

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Utilisation de masques avec des systèmes de particules

Comme les images suivantes l’illustrent, vous pouvez appliquer des masques à la source
de cellule d’un émetteur de particules. L’effet du masque sur la source de cellule est
répercuté sur les particules émises.

Couche source d’origine

Masque de Bézier appliqué
à la couche source

Système de particules obtenu

Vous pouvez également appliquer des masques à l’objet émetteur proprement dit.

Masque rectangle (inversé)
appliqué à l’objet émetteur

Pour en savoir plus sur l’utilisation des masques, consultez la section

Masquage d’une

couche ou d’un groupe

.

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Chapitre 14

Utilisation des particules