Utilisation de masques avec des systèmes de particules
Comme les images suivantes l’illustrent, vous pouvez appliquer des masques à la source
de cellule d’un émetteur de particules. L’effet du masque sur la source de cellule est
répercuté sur les particules émises.
Couche source d’origine
Masque de Bézier appliqué
à la couche source
Système de particules obtenu
Vous pouvez également appliquer des masques à l’objet émetteur proprement dit.
Masque rectangle (inversé)
appliqué à l’objet émetteur
Pour en savoir plus sur l’utilisation des masques, consultez la section
Masquage d’une
couche ou d’un groupe
.
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Chapitre 14
Utilisation des particules