Verwenden von Masken für Partikelsysteme
Wie in den folgenden Bildern zu sehen ist, können Sie Masken auf die Zellenquelle eines
Partikelemitters anwenden. Der Maskeneffekt für die Zellenquelle wird auf die emittierten
Partikel übertragen.
Original source layer
Bezier mask applied
to source layer
Resulting particle system
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Kapitel 14
Arbeiten mit Partikeln
Sie können Masken außerdem auf das Emitterobjekt selbst anwenden.
Rectangle mask (inverted)
applied to the emitter object
Weitere Informationen zum Arbeiten mit Masken finden Sie unter
Maskieren einer Ebene
oder Gruppe
.